為了滿足對這類分析要求的需要,級X射線生產(chǎn)制造商—帕納科公司近向市場推出了用于環(huán)境分析的能量色散X射線熒光光譜儀—Epsilon 5.該儀器采用了一系列新的、帕納科的技術(shù)（X光管功率可達(dá)600W,X光管管壓可達(dá)100KV。）使其成為目前世界上的能量色散X射線熒光光譜儀。

    該儀器有兩大特點(diǎn)：制樣簡單，可以直接對固體、液體、粉末等進(jìn)行分析，與傳統(tǒng)的ICP、AAS分析方法相比，無須對樣品進(jìn)行前處理，大大了分析速度；屬元素的檢出限可以降亞ppm級,使其滿足的任何標(biāo)準(zhǔn)都沒有問題(如EPA IO-3.3、Weee & RoHS、ELV EN71等),并且將來標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)一步,也無需增加任何投資即可滿足，投資,。
技術(shù)參數(shù)

分析元素范圍：Na（11）－U（92）
激發(fā)電壓：100kV
X光管功率：600W
二次靶: 多可安裝15個(gè)
探測器: 面積高純Ge
分辨率: <135ev

主要特點(diǎn)

? Gd靶材——采用稀土元素釓Gd為靶材，對于重元素的K系線激發(fā)效率高.

? 600W高壓發(fā)生器——工作電壓可達(dá)100kV，可以測量屬的K線，從而使屬的靈敏度大大。(傳統(tǒng)的能譜儀和現(xiàn)有的波長色散型都只能測量屬的L線,而K線的強(qiáng)度要比L線的強(qiáng)度高一個(gè)數(shù)量級)

? 三維偏振技術(shù)——利用三維偏振激發(fā)源，X射線管、偏振靶或二次靶與試樣的幾何布局是三維，使用偏振光或二次靶激發(fā)樣品，了激發(fā)效率并大大降低了原級譜背景，從而降低了譜儀檢出限。

? 二次靶技術(shù)——根據(jù)待測元素及試樣的組成，選擇的二次靶用作激發(fā)源，譜儀可提供多達(dá)15個(gè)二次靶(標(biāo)準(zhǔn)9個(gè))。

? 濾光片——進(jìn)一步降低檢出限，可有多達(dá)5種供選擇。

? Ge探測器PAN-32——其探測面積30mm2和5mm厚度，檢測X射線能量范圍寬達(dá)0.7-100 keV，分辨率小于140eV,計(jì)數(shù)創(chuàng)記錄200,000cps。其在原子序數(shù)20(Sc)到92(U)100%的轉(zhuǎn)換效率。在量區(qū)(17keV以上)，其分辨率波長色散的晶體如LiF200的分辨率。