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美國(guó)普林斯頓V3 V4電化學(xué)工作站(恒電位/恒電流儀
美國(guó)普林斯頓V3 V4電化學(xué)工作站(恒電位/恒電流儀
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美國(guó)普林斯頓V3 V4電化學(xué)工作站(恒電位/恒電流儀

產(chǎn)品價(jià)格:
電議
產(chǎn)品型號(hào):
V3/V4
供應(yīng)商等級(jí):
企業(yè)未認(rèn)證
經(jīng)營(yíng)模式:
工廠
企業(yè)名稱:
上海萊瑟光譜儀器分析技術(shù)有限公司
所屬地區(qū):
上海市
發(fā)布時(shí)間:
2013/3/10 15:02:50

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上海萊瑟光譜儀器分析技術(shù)有限公司

企業(yè)未認(rèn)證營(yíng)業(yè)執(zhí)照未上傳

經(jīng)營(yíng)模式:工廠

所在地:上海市

主營(yíng)產(chǎn)品:直讀光譜儀金屬分析儀,法國(guó)輝光放電光譜儀,ICP光譜儀,熱分析儀,X射線衍射儀,數(shù)字渦流導(dǎo)電儀,氧、氮、氫聯(lián)測(cè)儀,紅外定氧儀,X射線熒光光譜儀,電子掃描顯微鏡,便攜式/移動(dòng)光譜儀,激光光譜儀(LIBS),ICP-MS,FIB,GPC,COD

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產(chǎn)品品牌:
普林斯頓
產(chǎn)品型號(hào):
V3/V4

VersaSTAT3(V3)電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)簡(jiǎn)介
(恒電位/恒電流儀)
V3 是一款由PAR 集40 多年經(jīng)驗(yàn)全新研發(fā)的恒電位/恒電流儀。V3 支持進(jìn)行全面
的電化學(xué)技術(shù)測(cè)試;配備功能強(qiáng)大、應(yīng)用方便的Studio 軟件,使V3 是一款在現(xiàn)今市場(chǎng)上極
具性價(jià)比的電化學(xué)工作站。
V3 支持的實(shí)驗(yàn)方法
1、±650mA/±10V 的極化范圍,支持多數(shù)電化學(xué)應(yīng)用、腐蝕、傳感器、生物電化學(xué)。
2、2A 電流輸出可選,到20A,支持化學(xué)電源、燃料電池、電鍍。
3、良好的電流測(cè)試,用于腐蝕、涂層評(píng)價(jià)以及微電極分析。
4、內(nèi)建 FRA 頻響分析儀(可選),支持電化學(xué)阻抗測(cè)試,頻率范圍10μHz-1M Hz
全新的V3 studio 軟件支持所有的V3 工作站。V3 工作站支持循環(huán)伏安、腐蝕等實(shí)驗(yàn)應(yīng)
用。
1、腐蝕:支持多種腐蝕分析方法,如:線形極化電阻(LPR)、Tafel(塔菲爾)等
2、伏安技術(shù)支持基本和掃描、階躍、脈沖等電化學(xué)測(cè)試技術(shù)
3、阻抗可用于任何體系的電化學(xué)阻抗測(cè)試技術(shù)
高性能的 V3 電化學(xué)工作站將為您的科研帶來(lái)極大的方便。
應(yīng)用
腐蝕研究
每年由于腐蝕從而造成億萬(wàn)美元的損失,占發(fā)達(dá)國(guó)家的GDP 5%左右。腐蝕已經(jīng)嚴(yán)
重影響到我們的生活,危害到人類的生活安危。
鹽蝕測(cè)試一直被廣泛應(yīng)用于腐蝕研究。鹽蝕實(shí)驗(yàn)通常需要持續(xù)幾個(gè)月的時(shí)間才能得到
結(jié)果。然而通過(guò)電化學(xué)儀器,采用動(dòng)態(tài)電位掃描或動(dòng)態(tài)電流掃描技術(shù)可以在短時(shí)間內(nèi)得到相
類似的結(jié)果。
V3 電化學(xué)工作站支持電化學(xué)測(cè)試技術(shù)中的腐蝕應(yīng)用。
1、線性極化電阻和塔菲爾分析(腐蝕電流,極化電阻 Rp,腐蝕速度等參數(shù))
2、電化學(xué)阻抗(快速,無(wú)損測(cè)試)
3、電化學(xué)阻抗各種極化,通過(guò)電化學(xué)阻抗信息探討腐蝕方式,擬合等效電路。
化學(xué)電源、燃料電池、超級(jí)電容器研究
V3 電化學(xué)工作站可以用來(lái)進(jìn)行小型化學(xué)電源、燃料電池、超級(jí)電容器的研究、參數(shù)分析。
1、充電/放電等循環(huán)充放電技術(shù)
2、高速 GSM/CDMA 電池脈沖放電研究
3、電化學(xué)阻抗廣泛應(yīng)用于電池特征參數(shù)的研究
4、可選內(nèi)建 2A 大電流裝置可以測(cè)試小電源,也可選配電流放大器測(cè)試大電源
傳感器研究
V3 由于優(yōu)異的電流測(cè)試,可以用于描述電位放大器、電流放大器和生物傳感器。
生物電化學(xué)研究:直流腐蝕分析技術(shù)通常用于假性等材料的腐蝕行為研究。新合金材料和填
充材料技術(shù)的不斷進(jìn)步和發(fā)展,但是腐蝕依然存在,并造成破壞,V3 可以通過(guò)ASTMFR129
標(biāo)準(zhǔn),采用動(dòng)電位極化測(cè)試廣泛應(yīng)用于腐蝕研究。
教學(xué)
V3 工作站只需極低的耗材、簡(jiǎn)單的使用。強(qiáng)大的電化學(xué)測(cè)試技術(shù)運(yùn)用于電化學(xué)研究和
基礎(chǔ)教學(xué)實(shí)驗(yàn)演示。V3 軟件功能強(qiáng)大,可以進(jìn)行復(fù)雜實(shí)驗(yàn)條件設(shè)定。軟件方便簡(jiǎn)單,便于
新手掌握。而且您還可以PAR 得到全方位的技術(shù)支持、幫助,使得V3 工作站成為您教學(xué)
設(shè)備的電化學(xué)儀器。
V3-Studio 軟件
完全的V3-Studio 軟件支持全系列V3電化學(xué)工作站,包括大電流擴(kuò)展和電流放大設(shè)備。
各種系統(tǒng)綜合性的軟硬件完美結(jié)合,使V3-Studio 可以致力于各個(gè)領(lǐng)域中的研究,并且通
過(guò)不同的預(yù)算不斷升級(jí);共有4 種配置的V3 工作站對(duì)應(yīng)于相應(yīng)的V3 軟件。
V3-100 基本的直流伏安技術(shù)
V3-200 的直流伏安技術(shù)
V3-300 完整的直流腐蝕技術(shù)
V3-400 完整的直流伏安技術(shù)和腐蝕技術(shù)
電化學(xué)阻抗模塊可以內(nèi)建在上述 4 種V3 工作站中。
腐蝕
V3-300 提供全套完整的直流電化學(xué)測(cè)試技術(shù)
z 恒電位、恒電流、動(dòng)電位、動(dòng)電流技術(shù)
z 塔菲爾、Rp 擬合分析
z IR 補(bǔ)償
z 阻抗分析(阻抗模塊)
伏安法
V3-200、V3-400 提供全范圍的掃描、階躍、脈沖等電化學(xué)測(cè)試方法,可用于電分析、
微電極、傳感器、電沉積、化學(xué)電源/燃料電池等研究;V3-100 同樣可以提供一部分基礎(chǔ)
電化學(xué)實(shí)驗(yàn)方案。
z 正規(guī)和非正規(guī)脈沖
z 循環(huán)脈沖
z 計(jì)時(shí)安培法、計(jì)時(shí)電位法
z 自動(dòng)循環(huán)充放電
z 控制電流放大器用于大容量電池
z 阻抗分析(阻抗模塊)
電化學(xué)阻抗
電化學(xué)阻抗模塊可以內(nèi)建在任一 V3 系統(tǒng)中,完整的電化學(xué)阻抗測(cè)試技術(shù)可以用來(lái)研究
化學(xué)電源、傳感器、電池/燃料電池、腐蝕、涂層等。
z 控制電位的電化學(xué)阻抗
z 控制電流的電化學(xué)阻抗
z 2A 及大電流的阻抗研究
z 連續(xù)循環(huán)阻抗
V3 軟件提供強(qiáng)大的功能,支持用戶高質(zhì)量的電化學(xué)測(cè)試
z 自動(dòng)設(shè)置實(shí)驗(yàn)參數(shù)
z 實(shí)驗(yàn)結(jié)果自動(dòng)設(shè)置
z 電流、電位、時(shí)間圖示(X,Y1,Y2)
z 全程、實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
z 腐蝕實(shí)驗(yàn)中數(shù)據(jù)分析、擬合(塔菲爾、Rp)
z 數(shù)據(jù)輸出,以文本形式輸出,便于第三方軟件處理
z 線性等基礎(chǔ) EIS 分析(溶液電阻、極化電阻等)
z EIS 數(shù)據(jù)分析(等效電路擬合)
V3-Stadio 軟件提供全面、廣泛的電化學(xué)測(cè)試方法,它不但功能強(qiáng)大,而且便于新手學(xué)習(xí)使用。

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