產品說明： . 中頻交流磁控濺射鍍鏌：HC系列真空膜機，采用的中頻交 流磁控濺射鍍膜技術。 . 中頻交流磁控濺射鍍膜技術的優(yōu)點： . 蒸發(fā)速率與離化率高，穩(wěn)定不容易中毒。 . 膜層細膩致密，可穩(wěn)定控制膜厚和顏色。 . 沈積反應膜層，穩(wěn)定。 . 可廣泛多樣地交聯(lián)搭配濺射耙的安裝方式。 . 可廣泛多樣地任意選擇耙材：使用導電材料與非導電材料靶 材，或不同靶材同時工作蒸發(fā)，或的鑲嵌復合靶鍍膜的 技術。 . 濺射靶的設計，的結構，嚴格的磁場分配，合理的 水冷卻，經過嚴密的氦氣測漏儀真空檢漏，長時間工作穩(wěn)定 ，靶材利用率高。 . 簡便的安裝設計與容易的保養(yǎng)維修，備件互換性好。系統(tǒng)展 。
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