平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。
平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高的平面件，例如，平面光學(xué)件、平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。
平面平晶的技術(shù)參數(shù)（備注：規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做）
平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高的平面件，例如，平面光學(xué)件、平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。
平面平晶的技術(shù)參數(shù)（備注：規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做）
| 平面直徑d(mm) | 基本參數(shù) | ||||
| 1級(jí) | |||||
| d范圍內(nèi) | 2/3d范圍內(nèi) | ||||
| 30 45 60 | 0.03 | ---- | |||
| 80 100 150 | 0.05 | 0.03 | |||
| 200 250 300 | 0.08 0.1 0.15 | 0.05 0.05 0.09 | |||